 该系列设备主要集中频磁控溅射、电弧离子蒸发和离子源及脉冲偏压结合等技术为一体，实行全自动化控制。此设备广泛应用于表带、表壳、手机壳、五金、餐具等工件上镀制 TiN，TiC，TiCN、TiAIN，CrN，Cu，Au，Al2O3等各种装饰膜层。
参数说明：
| 型号 |
JTL-1090 |
JTL-1110 |
JTL-1312 |
JTL-1613 |
| 真空室尺寸 |
Φ 1000Χ900mm |
Φ 1100Χ1000mm |
Φ 1300Χ1200 mm |
Φ 1600Χ1300 mm |
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镀膜方式及主要配置 |
3个电弧+平面矩形阴极2对 |
6个电弧+圆柱阴极2对+平面矩形阴极1对 |
6个电弧+圆柱阴极4对+平面矩形阴极1对 |
8个电弧+圆柱阴极8对+平面矩形阴极1对 |
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镀膜种类 |
金属膜，介质膜，化合物膜，反应膜，多功能层次膜 |
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电源 |
电弧电源，真空磁控电源，中频磁控电源，脉冲偏压电源，离子源电源 |
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真空室结构 |
立式前（单）开门，后置抽气系统，双层水冷 |
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真空系统组成 |
分子泵（扩散泵）+罗茨泵+机械泵 |
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极限真空 |
8.0Χ10-4 |
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抽气时间 |
大气抽至3Χ10-3Pa≤15min |
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工件运动方式 |
公 /自转，变频调速 |
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工件烘烤温度 |
常温到 350oC可调可控 |
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控制方式 |
全自动化控制 PC+PLC/PC+HMI |
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备注 |
该设备可按客户产品及特殊工艺要求订做 | |
沈网警备案20040880号
